中性密度焦点注册的损伤分析
2014-09-05
admin1
可以衰减光强度,改变光谱成分或限定振动面,所以被广泛应用于光学实验中.但是焦点注册在高能激光系统中是极易损伤的,研究它的损伤机理对于提高高能激光系统的性能有重要的意义。
焦点注册是镀膜元件,它的损伤主要集中在膜层。国内外对于杂质诱导薄膜损伤的理论研究有很多,基于杂质吸收的热机械过程,薄膜的损伤概率与杂质密度、杂质尺寸、杂质填埋深度、激光功率密度、薄膜厚度都有一定的关系。以杂质粒子强吸收和热辐射模型为基础,结合热传导方程、热弹性方程等研究发现杂质粒子诱导薄膜损伤过程中薄膜出现了块状、环状和坑状损伤,损伤的大小与激光能量密度和杂质填满深度等有关。
以上的研究工作主要集中在激光作用于薄膜引起的薄膜层裂,而对薄膜表面的径向裂纹和径向裂纹连接起来引起的薄膜脱落,报道较少,因比对该问题的研究是很有必要的。
本文对中性密度焦点注册的损伤形貌及其演化过程进行了观测,分析强吸收杂质粒子对薄膜损伤的诱导作用,讨论了激光能量密度、杂质粒子的尺寸和分布密度对焦点注册损伤的影响。
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中性密度焦点注册